ALD系統(tǒng)應(yīng)用范圍再次升級

隨著NANO-MASTER*技術(shù)的ICP源的深入應(yīng)用，對于大面積的基片提供均勻高品質(zhì)的薄膜生長得以實現(xiàn)。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展，這給顯示和照明等領(lǐng)域帶來好消息。

此外，NANO-MASTER同時具備粉末處理能力的擴展。這樣，NANO-MASTER系統(tǒng)已經(jīng)可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進行原子級生長。在應(yīng)用選擇方面，我們支持熱ALD和PEALD系統(tǒng)的單獨應(yīng)用，同時也支持ALE/ALD雙系統(tǒng)、IBE/ALD雙系統(tǒng)、ALD/PECVD雙系統(tǒng)、ALD/IBAD雙系統(tǒng)等應(yīng)用，以及ALD跟其它NANO-MASTER任意系統(tǒng)組成的Cluster系統(tǒng)，可以實現(xiàn)多工序工藝在不間斷真空的情況下一步完成工藝。